商务部 ：刘丰
电话 (+86)138-7335-1022
E-mail： cx122@chenxinzz.com
技术支持：罗旺
电话 (+86)139-7335-1517
E-mail： chenxin@chenxinzz.com
电 话：(+86)0731-2863-2875
地 址：湖南省株洲市芦淞区航空大道湖南辉佳环保财产园4-2#栋
设备概述：
化学气相沉积（CVD）炉（半导体行业专用）用于晶圆级薄膜沉积的关键工艺装备
技术特点：
高纯度薄膜沉积（纯度＞99.9999%，颗粒污染＜0.1个/cm²）
原子级厚度控制（±1Å精度，支持1-500nm薄膜）
多材料兼容（Si/SiC/GaN/二维材料等）
技术参数(可接受非标定制）：
产品展示：
<i id='c9082'><strike id='c9b69'><tt id='706c3'><pre id='a5b7c'></pre></tt></strike></i>